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[发明专利]掩膜-CN201510441986.0有效
发明人：陈瑞祥 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2015-07-24 - 公布日： 2017-11-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开一种掩膜，包括沿一预定方向接续排列的多个图案化结构以及环绕图案化结构设置的周边区。各图案化结构包含开口部以及环绕开口部设置的薄化部。开口部具有阵列排列的多个贯穿开口。
掩膜

[发明专利]掩膜-CN201710556840.X有效
发明人：江南辉;陈瑞祥;赖俊志;邓博文;陈信宏 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2017-07-10 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明公开一种掩膜，包含第一岛状物以及第二岛状物。第二岛状物连接第一岛状物。第二岛状物与第一岛状物在行列方向上都交错排列。每两个邻近的第一岛状物与对应的两个第二岛状物之间夹有通孔。
掩膜

[发明专利]掩膜-CN201280059575.X有效
发明人：金信英;洪敬奇;尹赫;朱元喆;赵镛一;朴文洙;高铜浩;柳秀英 -专利权人： LG化学株式会社
申请日： 2012-01-19 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：在本发明的发光器件的一个实施方式中包括的掩膜被设置成以高亮度发射具有良好平行性的光到距离一定距离的要照射的表面上，并且通过使用所述掩膜能够制造具有精确形成的取向图案的光取向层。
掩膜

[发明专利]掩膜版-CN202310195715.6在审
发明人：张丁成;王盼盼;韩冰;李慧 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司;昆山国显光电有限公司
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜版。该掩膜版包括：掩膜框架、遮挡掩膜、支撑掩膜以及拉力机构；其中，掩膜框架围设形成中空区域；交叉设置的遮挡掩膜和支撑掩膜，遮挡掩膜的至少部分和支撑掩膜的至少部分在掩膜框架所在平面上的正投影分别位于中空区域内，且与掩膜框架接触；拉力机构设置于掩膜框架上，并与遮挡掩膜和/或支撑掩膜连接，用于施加作用力于遮挡掩膜和/或支撑掩膜，以张紧或松弛遮挡掩膜和/或支撑掩膜。该掩膜版可以匹配不同的目标基板以及同一目标基板的不同位置对遮挡掩膜和/或支撑掩膜的张紧程度的需求，有效改善了掩膜版与目标基板之间的贴合效果，提升了产品良率。
掩膜版

[实用新型]掩膜框架，掩膜框架和掩膜版组件-CN201721221479.7有效
发明人：李雪萍;黄立为;杨凡;辛燕霞 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-09-21 - 公布日： 2018-03-20 - 主分类号： G03F1/64 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜框架，掩膜框架和掩膜版组件。所述掩膜框架用于与掩膜版焊接的位置具有凹陷部，所述凹陷部用于在所述掩膜框架和掩膜版焊接时堆放焊接熔融物。掩膜框架和掩膜版组件，包括掩膜框架和掩膜版；所述掩膜框架用于与掩膜版焊接的位置具有凹陷部，所述凹陷部用于在所述掩膜框架和掩膜版焊接时堆放焊接熔融物；所述掩膜版与所述掩膜框架紧贴，且所述掩膜版的焊接位置与所述掩膜版框架的凹陷部至少部分重合；在所述掩膜版的焊接位置处焊接，所述焊接熔融物形成的焊点位于所述凹陷部及所述掩膜版焊接形成的孔内，且所述掩膜版和所述掩膜版焊接在一起。本实用新型解决了现有的掩膜框架无法控制焊接熔融物流动方向的技术问题。
框架掩膜版组件

[发明专利]一种金属掩膜板结构及其制作方法-CN201510206510.9在审
发明人：苏君海;柯贤军;吴俊雄;冉应刚;马得贵;李建华 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2015-04-28 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开一种金属掩膜板结构，包括分割为面积相等或面积不等的多块子掩膜板，所述多块子掩膜板拼接为一完整的掩膜板。一种金属掩膜板结构的制作方法，包括步骤1，提供用于承载子掩膜板的掩膜板框架以及多块上述子掩膜板；掩膜板框架上设有用于固定子掩膜板的固定卡位；步骤2，将多块上述子掩膜板放置在掩膜板框架上的固定卡位，由固定卡位固定所述子掩膜板；步骤3，通过焊接或铰接的方式，将多块子掩膜板拼接成一完整的掩膜板。本发明提出一种金属掩膜板结构，将分割掩膜板进一步细分为多个子掩膜板，可降低掩膜板制造工艺难度，降低掩膜板制作成本，降低整条掩膜板报废的风险，提高掩膜板重复利用寿命，提高各段掩膜板的制作精度。
一种金属板结及其制作方法

[发明专利]掩膜条、阵列基板、显示屏及显示装置-CN201910097878.4有效
发明人：刘明星;刘如胜;张兵;韩冰;赵莹;甘帅燕;高峰 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜条、阵列基板、显示屏及显示装置，掩膜条用于阵列基板上的发光结构层的制作，所述掩膜条包括多个子掩膜版，所述子掩膜版包括第一掩膜区和第二掩膜区，所述第一掩膜区具有第一掩膜开口，所述第二掩膜区具有第二掩膜开口，所述第二掩膜开口的密度小于第一掩膜开口的密度，且至少部分第二掩膜开口的尺寸大于所述第一掩膜开口的尺寸。至少部分第二掩膜开口的尺寸大于所述第一掩膜开口的尺寸，从而降低第二掩膜区的强度，使得第二掩膜区的强度接近或等于第一掩膜区的强度，掩膜条在张网时第一掩膜区与第二掩膜区的交界区域受力均匀，因而交界区域不易产生褶皱
掩膜条阵列显示屏显示装置

[发明专利]一种掩膜装置及掩膜装置与基板的贴合方法-CN202010356403.5在审
发明人：段廷原 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2020-04-29 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜装置及掩膜装置与基板的贴合方法，掩膜装置包括掩膜板，掩膜板包括掩膜板框架以及所述掩膜板框架环绕的掩膜区域；掩膜条，围绕掩膜区域设置于掩膜框架上，掩膜条在掩膜板上的投影与掩膜区域不重叠；掩膜板框架对应掩膜条的端部设有通孔；升降机构，设置于掩模版框架上的通孔内；其中，掩膜条的端部焊接在升降机构上。本申请通过在掩膜条的端部焊接升降机构，升降机构位于掩膜板框架通孔内，当掩模版与基板贴合时，升降机构带动掩膜条的端部沿垂直于掩模板框架所在平面朝向远离掩模板框架的方向移动预设距离，使基板与掩膜条紧密贴合。
一种装置贴合方法

[发明专利]一种掩膜板及其制作方法-CN201310752500.6有效
发明人：谢志生;丁涛;苏君海;柯贤军;何基强;李建华 -专利权人：信利半导体有限公司
申请日： 2013-12-31 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板制作方法及采用该方法制作形成的掩膜板，所述掩膜板制作方法包括：提供基板；减薄所述基板的中部区域，形成掩膜区域，未减薄区域形成掩膜框；对掩膜区域中待形成掩膜图案块的区域进行刻蚀，形成掩膜通孔和掩膜线由于本发明提供的掩膜板制作方法，采用一个整体的基板，通过多次减薄和刻蚀同时形成掩膜框和掩膜，由于所述掩膜框和掩膜为整体结构，无需再通过拉网和焊接工艺固定所述掩膜框和掩膜，从而简化了所述掩膜板的工艺流程，使掩膜板制作工艺更加简单。另外，本发明提供的掩膜板由于采用上述方法制作形成，避免了拉网和焊接过程中对掩膜通孔产生的损伤，因此能够提高掩膜板的质量。
一种掩膜板及其制作方法

[发明专利]掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法-CN201610354130.4有效
发明人：张小华;刘少华;刘振宇;闫冬;崔富毅 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2016-05-25 - 公布日： 2020-02-18 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：一种掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法。该掩膜版管理系统包括：掩膜版投入模块，其被配置来提供至少一个掩膜版组，每个所述掩膜版组包括一个卡匣和放置在所述卡匣内的多个掩膜版；掩膜版检测和处理模块，其被配置来检测所述掩膜版组中的多个掩膜版，并根据检测结果对需要处理的掩膜版进行对应的掩膜版处理；掩膜版分类模块，其被配置来将经过处理并合格的掩膜版重新调整到所述掩膜版所属的掩膜版组的卡匣中。该掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法可进行精细化的管控，有利于提高生产效率。
掩膜版管理系统以及使用方法

[发明专利]掩膜版及其制造方法-CN201910340146.3有效
发明人：张晶;甘帅燕;王亚;宋建华 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版及其制造方法，制造方法包括：提供掩膜框架；在掩膜框架上固定设置对准掩膜，且对准掩膜内具有对位孔；以对位孔为对准标记，在掩膜框架上固定设置支撑掩膜，且支撑掩膜内具有贯穿支撑掩膜的监测孔；以对位孔为对准标记，在掩膜框架上固定设置至少一个掩膜条，掩膜条内具有贯穿所述掩膜条的开口以及测试孔，且测试孔在支撑掩膜上的正投影位于监测孔内。本发明能够保证支撑掩膜与掩膜条之间的位置对准精度，消除测试孔被支撑掩膜遮挡的风险，保证测试孔在支撑掩膜上的正投影位于监测孔内。
掩膜版及其制造方法

[发明专利]一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件-CN201910244878.2有效
发明人：郑勇;杜帅;丁文彪 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件，涉及掩膜版领域，能够解决掩膜版在焊接时因激光能量不易控制而造成的焊接不良；该掩膜版包括掩膜图案区以及位于掩膜图案区四周的非掩膜图案区；掩膜图案区包括至少一个有效掩膜区；有效掩膜区中包括：多个蒸镀孔，以及位于蒸镀孔和蒸镀孔之间的遮挡条；掩膜版在非掩膜图案区内设置有焊接区；掩膜版在非掩膜图案区内至少在焊接区的厚度，大于掩膜版在有效掩膜区的遮挡条的厚度。
一种掩膜版及其制作方法组件

[发明专利]镀膜修正掩膜板及蒸镀系统-CN202011488995.2有效
发明人：张兴中 -专利权人：业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;英特盛科技股份有限公司
申请日： 2020-12-16 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及一种镀膜修正掩膜板和蒸镀系统，包括掩膜基板及多个掩膜调节板，掩膜调节板与掩膜基板的形状及尺寸相匹配，使得掩膜基板形成底板掩膜，掩膜调节板置于掩膜基板上形成可调掩膜；多个掩膜调节板和掩膜基板共同界定形成镀膜修正掩膜板的形状；掩膜调节板被构造为能够沿第一方向滑动地连接于掩膜基板一侧，当掩膜调节板沿第一方向滑动时，进而整个镀膜修正掩膜板的形状改变；当镀膜光谱曲线发生改变时，不需要另行重新修剪甚至制作新的镀膜修正掩膜板，直接实现了镀膜修正掩膜板自身形状可调节的功能
镀膜修正掩膜板系统

[发明专利]半导体结构及其形成方法-CN201910302873.0在审
发明人：宋以斌;王彦;张海洋 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2019-04-16 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：一种半导体结构及其形成方法，形成方法包括：形成待刻蚀层结构；在待刻蚀层结构上形成底部掩膜材料层和位于底部掩膜材料层上的图形化的顶部掩膜层；以顶部掩膜层为掩膜，进行多次沉积刻蚀步骤，刻蚀底部掩膜材料层，形成底部掩膜层；其中，沉积刻蚀步骤包括：进行沉积处理，在顶部掩膜层表面沉积保护层；在沉积处理之后，以顶部掩膜层和保护层为掩膜对底部掩膜材料层进行刻蚀处理；形成底部掩膜层后，以顶部掩膜层和底部掩膜层为掩膜刻蚀待刻蚀层结构沉积处理中形成的保护层在刻蚀处理中保护顶部掩膜层，使得顶部掩膜层不易被消耗，从而以顶部掩膜层和底部掩膜层为掩膜刻蚀待刻蚀层结构后，提高了目标图形结构的图形精度。
半导体结构及其形成方法

[实用新型]一种双层掩膜版组件和蒸镀装置-CN201720578925.3有效
发明人：赵蓉;金龙 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-05-23 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种双层掩膜版组件和蒸镀装置，涉及显示技术领域，用于使第一掩膜版和第二掩膜版之间可以紧密贴合。该组件包括第一掩膜版、第一掩膜版框架、第二掩膜版和第二掩膜版框架；其中，第一掩膜版固定在所述第一掩膜版框架上，在第一掩膜框架固定第一掩膜版的表面上、且未被第一掩膜版覆盖的区域内设置有第一卡接部；第二掩膜版固定在第二掩膜版框架上，在第二掩膜框架固定第二掩膜版的表面上、且未被第二掩膜版覆盖的区域内设置有第二卡接部；第一掩膜框架固定第一掩膜版的表面与第二掩膜框架固定第二掩膜版的表面相对设置，且第一卡接部与第二卡接部卡合，以便第一掩膜版和第二掩膜版相贴合本实用新型用于掩膜版组件的制造。
一种双层掩膜版组件装置

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